Folha de tântalo

Baoji Yibaite Novos Materiais Technology Co., Ltd.Folha de tântalo. Os alvos floraisaplicações de precisãoem ambientes corrosivos, de alta-temperatura e de alta-pureza. A empresa fica em Baoji, um lugar que as pessoas chamam"Vale do Titânio da China."Seu trabalho principal é processarmetais refratáriose envio de produtos laminados para clientes em todo o mundo.

A folha usatântalo não ligado(Grau R05200 ou R05400) eligas de tântalocomo Ta-2,5W (R05252), Ta-10W (R05255) e Ta-40Nb (R05240). O tântalo possuinúmero atômico de 73e umponto de fusão de 3017 graus-um dos mais altos entre todos os metais, perdendo apenas para o tungstênio e o rênio. Ele atendeASTM B708para chapas, folhas e tiras.Resistência à tracçãode folhas recozidas varia de200 a 400MPa. O material permanecealtamente dúctilmesmo em espessuras tão finas quanto 0,01 mm, e pode ser facilmente fabricado em folhas, revestimentos ou componentessem perda de resistência estrutural. Isso éa densidade é 16,6 g/cm³, conferindo-lhe excepcional integridade mecânica sob condições extremas. Os engenheiros selecionam este material ondenenhum metal alternativo pode sobrevivera combinação de calor, corrosão e exposição química.

Cada bobina éfeixe-de elétrons ou arco-de vácuo fundidoa partir de lingotes de alta-pureza (maior ou igual a 99,95%), entãolaminados a quente-e a frio-até a espessura desejada. O material é entãorecozido-a vácuopara restaurar a ductilidade e minimizar o conteúdo de oxigênio.As tolerâncias de espessura são mantidas rigorosasatravés de laminação a frio de precisão, que também refina o acabamento superficial e garanteuniformidade de espessura. A superfície sailimpo e suave, livre de oxidação, inclusões ou defeitos. Estas condições suportamsoldagem, conformação, estampagem-profunda e deposição-de filmes finos. A espessura varia de0,01 mm a 1,0 mm. Os clientes podem solicitarlarguras específicas e dimensões personalizadas. A estrutura do grão é uniformeao longo da bobina completa. As propriedades mecânicas permanecemconsistente do início ao fim-crítico para alto-volume e produção repetível em bitolas finas.

Por desempenho,folha de tântalo dura anos mais que materiais alternativosem meios químicos agressivos. Em sua superfície, umfilme de pentóxido de tântalo (Ta₂O₅)se forma espontaneamente. O filme funciona como umbarreira inerteque bloqueia a degradação adicional e resiste ao ataque químico. O material énão atacado por ácido clorídrico, ácido sulfúrico, ácido nítrico ou ácido fosfórico, mesmo em temperaturas elevadas. Ele lidaácidos concentrados em temperaturas superiores a 200 grauscom taxa de corrosão mensurável zero (<0.0001 mm/year) . Only ácido fluorídrico e soluções alcalinas quentespode atacá-lo severamente. Além disso, o tântalo ébiocompatível e não{0}}reativoem fluidos corporais, superando ligas de titânio e cobalto-cromo no desempenho de liberação-de íons .

Os usos comuns incluem:revestimentos de trocadores de calor para processamento químico, alvos de pulverização catódica e barreiras de difusão para fabricação de semicondutores, cadinhos e bainhas de proteção de termopares, escudos térmicos para fornos a vácuo e testes térmicos aeroespaciais , malhas de implantes médicos e componentes de reparo craniano , folhas de eletrodo de capacitor para eletrônica, erevestimentos-resistentes à corrosão para colunas de destilação e caldeiras .

 

 

Folha de tântaloé amplamente aplicado em:

• Processamento químico premium e fluido corrosivo-Equipamento de manuseio:Folhas de revestimento de reatores químicos corrosivos, laminações de juntas de tubulações de ácido de alta{0}pressão, envoltórios de elementos de aquecimento de ácido clorídrico e nítrico, revestimentos de aquecedores industriais de baioneta e embalagens severas de torres de destilação química.
• Eletrônica-de alta confiabilidade e fabricação avançada de capacitores:Folhas sólidas de substrato anódico de capacitor de tântalo, folhas de capacitores eletrolíticos úmidos-de alta temperatura,-camadas de capacitores de armazenamento de fonte de alimentação de nível militar, folhas de blindagem de implantação de íons semicondutores e substratos eletrônicos-micro{4}}de filme fino.
• Processamento avançado de semicondutores e componentes de forno a vácuo:Matrizes de folha de suporte de alvo de pulverização catódica de semicondutores, revestimentos de barco de deposição física de vapor (PVD), laminações de isolamento de múltiplas{1} camadas com escudo térmico de alto-vácuo, blindagem de elemento de aquecimento de forno de sinterização de temperatura ultra-alta-e revestimentos de cadinho.
• Dispositivos médicos implantáveis ​​e instrumentação avançada-compatível com bio:Telas cirúrgicas para reparo craniano, lâminas de encapsulamento de placas ósseas bio-compatíveis, lâminas protetoras de marca-passo implantáveis, lâminas de matriz de sutura dentária e revestimentos de barreira de micro{1}}membranas ortopédicas.
• Sensores de pressão de precisão e conjuntos de discos de ruptura em miniatura:Diafragmas corrosivos-de transmissores de pressão média, vedações de micro{1}}válvulas de laboratório industrial, discos de rompimento/ruptura especializados para vasos de pressão voláteis, molas planas micro-usinadas de alto{3}}ciclo de fadiga e matrizes de molas de equilíbrio de movimento de relógio.